Компания Zeiss Group, известный производитель оптических компонентов, заявила, что китайские разработчики EUV-оборудования для производства чипов могут потребовать до 15 лет для достижения необходимых технологий. Это заявление подчеркивает значительное отставание Китая в области литографии, особенно в контексте импортозамещения, которое активно продвигается в стране.
Западные эксперты внимательно следят за усилиями китайских производителей в создании собственного оборудования для полупроводниковой промышленности. Оценки их прогресса варьируются, однако большинство специалистов согласны с тем, что китайские компании сталкиваются с серьезными технологическими вызовами и необходимостью значительных инвестиций для достижения уровня западных аналогов.
Значимость данного вопроса заключается в том, что развитие технологий EUV критически важно для производства современных чипов, которые используются в различных отраслях, включая электронику и автомобилестроение. Отставание в этой сфере может негативно сказаться на конкурентоспособности китайской экономики на глобальном рынке полупроводников.