Китай сталкивается с серьезными трудностями в освоении технологий EUV-литографии, необходимых для производства современных чипов. По данным аналитиков UBS, страна не сможет достичь необходимых стандартов до 2040 года, что ставит под сомнение ее конкурентоспособность на глобальном рынке полупроводников.
С 2019 года нидерландская компания ASML, единственный производитель оборудования для EUV-литографии, не имеет права поставлять свои технологии в Китай. Это ограничение привело к тому, что китайские производители не смогли получить доступ к передовым технологиям, которые позволяют производить чипы с нормами 7 нм и ниже.
Задержка в освоении EUV-технологий может существенно повлиять на развитие китайской полупроводниковой отрасли, что, в свою очередь, отразится на всей экономике страны. В условиях глобальной конкуренции это может привести к дальнейшему отставанию Китая от ведущих стран в области технологий и инноваций.