Китайские производители чипов значительно увеличили свои производственные мощности, закупив сотни иммерсионных литографических установок ASML, работающих в глубоком ультрафиолете. Это оборудование позволит выпускать 7-нм логические чипы и память для ИИ-ускорителей, что является важным шагом для развития технологий в стране.
Несмотря на то, что литографы DUV уступают более современным EUV-системам, их использование для зрелых техпроцессов может быть перепрофилировано для более передового производства. Это позволяет китайским компаниям продолжать развивать свои полупроводниковые технологии, несмотря на экспортные ограничения, наложенные на страну.
Увеличение производства ИИ-ускорителей имеет важное значение для Китая, так как это поддерживает его амбиции стать лидером в области технологий и инноваций. Развитие полупроводниковой отрасли также может способствовать экономическому росту и технологической независимости страны в будущем.