Инвесторы утверждают, что Китай позорно отстал от Запада в производстве чипов, с разрывом в технологиях, который исчисляется десятилетиями. По их словам, китайское производство чипов отстает на 22 года от технологий, используемых нидерландской компанией ASML, которая является лидером в области литографии.
Китайские компании, как ожидается, смогут начать массовое производство EUV-литографов только через 10 лет. В то же время Тайвань уже активно использует эту технологию на протяжении последних пяти лет, что подчеркивает значительное отставание Китая в данной области. Кроме того, DUV-литографы, которые являются предшественниками EUV, также будут доступны для массового производства в Китае не ранее чем через два года.
Данная ситуация подчеркивает важность технологий литографии для производства полупроводников и их критическую роль в глобальной конкурентоспособности. Отставание Китая в этой области может оказать серьезное влияние на его возможности в высоких технологиях и на развитие экономики в целом.